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YCAM Re-Marks

scopic measure #12
fade out

真鍋大度+石橋素

アートの地平を切り開く挑戦的なプロジェクトや、今後が期待される若手アーティストのインスタレーションなどを紹介する展示シリーズ「scopic measure」の第12弾。真鍋大度+石橋素「particles」と同時に開催した本展では、それぞれアーティストやプログラマーとして活動する真鍋大度と石橋素のインスタレーション「fade out」を紹介した。
日時
2011年3月5日〜5月5日
会場
ホワイエ

作品

fade out

真鍋大度+石橋素

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fade out

真鍋大度+石橋素

特殊な塗料を塗布したシートにそれぞれレーザー光を照射し、光学反応を起こすことで、モニターやプロジェクターなどの光学装置とは全く異なる原理で画像を表示するデバイス。蓄光塗料を使用する「fade out―phosphorescence」と、光に反応して着色する有機化合物「フォトクロミック化合物」を含んだ塗料を使用する「fade out―photochromic」の2つで構成されている。
会場には鑑賞者のポートレートを撮影する端末が設置されており、この端末で撮影された画像の輝度を解析し、それに基づきレーザーをシートに照射し画像を描き出していく。鑑賞者は、日常的に接している光学装置とは異なる原理で描かれる画像を通じて、ほとんど意識することのない〈光のマチエール〉の存在を感知する。

プロフィール

クレジット

主催:

  • 財団法人山口市文化振興財団

後援:

  • 山口市
  • 山口市教育委員会

制作協力:

  • 株式会社ライゾマティクス
  • 株式会社DGN

特別協力:

  • 青山学院大学理工学部化学・生命科学科機能物質化学阿部二朗研究室
  • 伊藤光学工業株式会社
  • 関東化学株式会社

技術協力:

  • YCAM InterLab

企画制作:

  • 山口情報芸術センター[YCAM]
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